著錄信息
- 專利名稱：一種耐高溫防紫外光輻射偏光膜結(jié)構(gòu)
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201220078224.0
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN202548355U
- 申請(qǐng)日：20120305
- 公開(kāi)(公告)日：20121121
- 申請(qǐng)人：來(lái)奇偏光科技（中國(guó)）股份有限公司
- 發(fā)明人：吳進(jìn)家
- 申請(qǐng)人地址：361022 福建省廈門市集美區(qū)杏林工業(yè)區(qū)光明路12號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN350211
- 專利權(quán)人：來(lái)奇偏光科技（中國(guó)）股份有限公司
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：G02B5/30,B32B23/08
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專利代理機(jī)構(gòu)：廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 35203
- 代理人：渠述華
- 審查員：無(wú)
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
紫外光,復(fù)合,保護(hù)層,偏光,延伸,層及保護(hù)層,紫外光輻射,兩側(cè),產(chǎn)品性能,高溫處理,脫層現(xiàn)象,結(jié)合度,耐高溫,偏光膜,阻斷,接觸
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