一、什么是特種工業(yè)氣體

特種氣體(Specialty gases)：指那些在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的,對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質(zhì)氣體配制的二元或多元混合氣。特種氣體是工業(yè)氣體中的一個(gè)新興門類，是隨著近年來國防工業(yè)、科學(xué)研究、自動化技術(shù)、精密檢測，特別是微電子技術(shù)的發(fā)展而發(fā)展起來的。特種氣體從應(yīng)用領(lǐng)域上分為：電子氣體、高純氣體、標(biāo)準(zhǔn)氣體。廣泛用于電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環(huán)境監(jiān)測、醫(yī)學(xué)研究及診斷、食品保鮮等領(lǐng)域。

二、特種氣體有哪些

近年來，隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的逐步擴(kuò)展，特種氣體的品種也與日俱增，據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，現(xiàn)有單元特種氣體達(dá)260種左右，特種氣體已成為高科技應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的基本原料。特種單一氣體有260種，其中電子氣體114種（實(shí)際常用的約44種），有機(jī)氣體65種，無機(jī)氣體35種，鹵碳素氣體29種，同位素氣體17種。

三、260種單元特種氣體的用途

1、氮?dú)?N2，純度要求>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序；電器、食品包裝、化學(xué)等工業(yè)也要用氮?dú)狻?/p>

2、氧氣-O2，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣；還可用于醫(yī)療氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于熱氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導(dǎo)纖維的制備。

3、氬氣-Ar，>99.999，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結(jié)等工序；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫。

4、氫氣-H2，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴(kuò)散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工序；在化學(xué)、冶金等工業(yè)中也有用。

5、氦氣-He，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點(diǎn)氣、平衡氣、校正氣、醫(yī)療氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外，特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

6、氯氣-Cl2，>99.96%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外，用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業(yè)廢品、污水、游泳池的衛(wèi)生處理；制備許多化學(xué)產(chǎn)品。

7、氟氣-F2，>98%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻；另外，用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。

8、氨氣-NH3，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中氮化工序；另外，用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業(yè)。

9、氯化氫-HCI，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴(kuò)散等工序；另外，用于橡膠氯氫化反應(yīng)中的化學(xué)中間體、生產(chǎn)乙烯基和烷基氯化物時(shí)起氧氯化作用。

10、一氧化氮-NO，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染的標(biāo)準(zhǔn)混合氣。

11、二氧化碳-CO2，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)推氣、校正氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外，還用于特種混合氣、發(fā)電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護(hù)氣等。

12、氧化亞氮-N2O，(即笑氣)，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、醫(yī)療氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積、醫(yī)月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。

13、硫化氫-H2S，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻，化學(xué)工業(yè)中用于制備硫化物，如硫化鈉，硫化有機(jī)物；用作溶劑；實(shí)驗(yàn)室定量分析用。

14、四氯化碳-CCl4，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延丫、化學(xué)氣相淀積等工序；另外，用作溶劑、有機(jī)物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

15、氰化氫-HCN，>99.9，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液，金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

16、碳酰氟-COF2，>99.99%，用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外，用作氟化劑。

17、碳酰硫-COS，>99.99%，用作校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

18、碘化氫-HI，>99.95%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。

19、嗅化氫-HBr，>99.9%，用于半導(dǎo)體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑，制備有機(jī)及無機(jī)澳化合物。

20、硅烷-SiH4，>99.999%，電阻率>100Ω/cm2，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積等工序。

21、乙硅烷-Si2H6，>99.9%，用于半導(dǎo)體制備工藝中化學(xué)氣相淀積。

22、磷烷-PH3，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體，可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

23、砷烷-AsH3，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、化學(xué)氣相淀積、離子注入等工序。

24、硼烷-B2H6，>99.995%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴(kuò)散、氧化等工序；用于有些化學(xué)工業(yè)合成過程:如氫硼化反應(yīng)(即生成醇類)，有機(jī)功能的衰退，制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

25、鍺烷-GeH4，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

26、銻烷-SbH3，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、離子注入工序。

27、四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4，>99.99%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積工序。

28、乙烷-C2H6，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；還用于冶金工業(yè)的熱處理，化學(xué)工業(yè)中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。

29、丙烷-C3H8，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外，用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。

30、硒化氫-H2Se，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

31、碲化氫-H2Te，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

32、二氯二氫硅-SiH2Cl2，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

33、三氯氫硅-SiHCl3，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

34、二甲基碲-(CH3)2Te，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散、離子注入工序。

35、二乙基碲-(C2H5)2Te，>99.999%，用途同(34)。

36、二甲基鋅(CH5)2Zn，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積工序。

37、二乙基鋅(C2H5)2Zn，>99.999%，用途同(36)。

38、三氯化磷-PCl3，>99.99%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中擴(kuò)散，鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機(jī)物的良好氯化劑；也用于含磷有機(jī)物的合成。

39、三氯化砷-AsCl3，>99.99%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中的外延和離子注入。

40、三氯化硼-BCl3，>99.99%，用于等離子干刻、擴(kuò)散；作硼載氣及一些有機(jī)反應(yīng)的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時(shí)從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。

41、四氯化硅-SiCl4，>99.999%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積工序。

42、四氯化錫-SnCl4，>99.99%，用于外延、離子注入。

43、四氯化鍺-GeCl4，>99.999%，用于離子注入。

44、四氯化欽-TiCl4，>99.99%，用于等離子干刻。

45、五氯化磷-PCl5，>99.99%，用于外延、離子注入。

46、五氯化銻-Sb=Cl5，>99.99%，用于外延、離子注入。

47、六氯化鑰-MoCl6，>99.9%，用于化學(xué)氣相淀積。

48、三嗅化硼-BBr3，>99.99%，用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導(dǎo)纖維。

49、三嗅化磷-PBr3，>99.99%，用于外延、離子注入。

50、磷酞氯-POCI3，>99.999%，用于擴(kuò)散工序。

51、三氟化硼-BF3，>99.99%，用于離子注入；另外，可作載氣、某些有機(jī)反應(yīng)的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時(shí)從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。

52、三氟化磷-PF3，>99%，用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。

53、三氟化砷-AsF3，>99.9%，用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。

54、二氟化氨-XeF2，>99.9%，用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應(yīng)堆排放廢氣中氮的測定。

55、三氟氯甲烷-CClF3，(R-13)，>99.995%，用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調(diào)均可用。

56、三氟甲烷-CHF3，(R-23)，>99.999%，用于等離子干刻工序；低溫冷凍劑。

57、三氟化氮-NF3>99.99%，用于等離子干刻工序；火箭推進(jìn)劑、氟化劑。

58、三氟嗅甲烷-CBrF3，(R13B1)，>99.99%，用于等離子干刻工序；還用于空調(diào)、低溫冷凍及滅火劑。

59、三氟化硼-11-B11F3，>99.99%，用于離子注入工序(天然硼的同位素，含11B81%，10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3)；還用于制備光導(dǎo)纖維。

60、四氟化碳-CF4，(R-14)，>99.99%，用于等離子干刻工序；在很低溫度下作為低溫流體用；也用于中性及惰性氣體。

61、四氟化硫-SF4，>98%，用于等離子干刻工序；氟化劑、表面處理劑。

62、四氟化硅-SiF4，>99.99%，用于化學(xué)氣相淀積工序；制備氟硅酸及其鹽類。

63、四氟化鍺-GeF4，>99.999%，用于離子注入工序。

64、五氟化磷-PF5，>99.9%，用于離子注入、等離子干刻工序；另外，用作氟化劑，聚合、烴化及脫烴化反應(yīng)、烴類裂化反應(yīng)時(shí)作催化劑。

65、五氟氯乙烷-C2ClF6，(R-115)，>99.99%，用于等離子干刻工序；另外，作冷凍劑、煙霧噴氣劑。

66、五氟化砷-AsF5，>99%，用于外延、離子注入工序，氟化劑。

67、六氟乙烷-C2F6，(R-116)，>99.99%，用于等離子干刻工序；用作冷卻、冷凍劑和空調(diào)；單體生產(chǎn)的原料；化學(xué)反應(yīng)中的添氟劑、電器設(shè)備的絕緣劑。

68、六氟化硫-SF6，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于化學(xué)氣相淀積工序；由于在高電壓下具有很高的電阻，用作電器設(shè)備的絕緣劑；檢漏氣體，實(shí)驗(yàn)室中作色譜儀的載氣。

69、六氟化鎢-WF6，>99.99%，用于化學(xué)氣相淀積工序；強(qiáng)烈的氟化劑；也用作鎢載體。

70、六氟化氧-(CF3)2O2，>99.99%，用于等離子干刻工序。

71、六氟乙酰-(CF3)2CO，>99.99%，用途同(70)。

72、六氟乙酞氧-(CF3CO)2O，>99.99%，用途同(70)。

73、六氟化錸-ReF6，>97%，用于離子注入工序；氟化劑。

74、八氟丙烷-C3F8，(R-218)，>99.9%，用于等離子干刻工序；與氟利昂相混合作冷凍劑；高壓電的絕緣劑。

75、八氟環(huán)丁烷-C4F8，(RC318)，>99.99%，用于等離子干刻工序；用作冷卻劑、冷凍劑；作電器和電子設(shè)備的氣體絕緣。

76、十二氟戊烷-C5F12，>99.9%，用于等離子干刻工序；也可與CF4相混用。

77、三甲基鋁-(CH3)3Al，>99.999%，用于化學(xué)氣相淀積工序；金屬的有機(jī)合成。

78、三甲基鎵-(CH3)3Ga>99.999%，用途同(77)。

79、三甲基銻-(CH3)3Sb，>99.999%，用途同(77)。

80、三甲基錮-(CH3)3In，>99.999%，用途同(77)。

81、三乙基鋁-(C2H5)3Al，>99.999%，用途同(77)。

82、三乙基鎵-(C2H5)3Ga，>99.999%，用途同(77)。

83、四乙基鉛-(C2H5)4Pb，>99.999%，用于化學(xué)氣相淀積工序。

84、丙烯腈-C3H3N，>99.9%，用于等離子干刻工序。

85、1，1，2-三氯乙烯-C2HCl3，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、醫(yī)療氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中熱氧化工序；另外，用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑，衣服干洗，冷凍劑，殺菌劑。

86、甲烷-CH4，99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；作燃料、宇宙飛船中氣體電池。

87、甲烷硫醇-CH3SH，>99.5%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于有機(jī)合成；作為噴氣燃料添加劑，殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。

88、一甲胺-CH3NH2，>99%，用于硫化促進(jìn)劑、藥物、染料和炸藥等，并作溶劑、有機(jī)合成、醋酸人造纖維。

89、甲醇-CH3OH，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣，與空氣混合后作校正氣；用于制備甲醛和農(nóng)藥鄉(xiāng)用于有機(jī)物質(zhì)的萃取劑和酒精的變性劑。

90、二甲胺-(CH3)2NH，>99%，用作抗氧化劑；在溶液中作浮洗劑、汽油穩(wěn)定劑、橡膠加速劑等。

91、二甲醚-(CH3)2O，>99.9%，在化學(xué)工業(yè)中用作配制合成橡膠和甲硫醚；用作甲基劑、萃取劑、溶劑；也用作制冷劑。

92、乙炔-C2H2，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；化學(xué)工業(yè)中的中間體，如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等；用于原子吸收光譜。

93、乙烯-C2H4，>99.99%，用作在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；是化學(xué)

工業(yè)合成中的重要原料，生產(chǎn)塑料的中間體，生產(chǎn)乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料；也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。

94、氧化乙烯-C2H4O，99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、醫(yī)療氣；與CO2、R11、R21相混合作消毒劑，文物保管，皮革消毒，清洗衣料均可采用；化學(xué)工業(yè)中用作中間體，生產(chǎn)液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。

95、溴代乙烯-C2H3Br，>99.9%，用作有機(jī)合成的中間體，用聚合法與共聚法來制備塑料。

96、一乙胺-CH3CH2NH2，>99%，水溶液中含有70%乙胺，作為下列化學(xué)工業(yè)制備中的中間體:著色劑，電鍍池、硫化增速劑等；還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。

97、四氟乙烯-C2F4，>99%，在生產(chǎn)塑料時(shí)作為一種重要的單體，如泰氟隆等。

98、乙醛-CH5CHO，>99.9%，用作校正氣；用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。

99、二甲基二硫醚-CH3S2CH3，＞99.9%，用作校正氣、溶劑。

100、二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%，用作校正氣、溶劑。

101、乙醇-C2H5OH，>99.9%，用作校正氣；用于溶劑，制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。

102、乙酰氯-CH3COCl，99.99%，用于乙?；瘎┖突瘜W(xué)試制。

103、1-羥亞乙基-1，1雙磷酸-C2H8P2O7，>99.99%，簡稱HEDPA，用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環(huán)境衛(wèi)生；在石油和氣田中用作防腐劑。

104、環(huán)丙烷-(CH2)3，>99%，用于有機(jī)合成；醫(yī)藥上作麻醉劑。

105、甲基乙炔-C3H4>99%，用作在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于制備丙酮；化學(xué)工業(yè)中作合成中間體。

106、六氟丙酮-CF3COCF3，>99.9%，是強(qiáng)烈的反應(yīng)氣，常與脂肪酮發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，用這些酮類可制備不同的產(chǎn)品，如穩(wěn)定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物，以及農(nóng)業(yè)及藥物產(chǎn)品。

107、三甲胺-(CH3)3N，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣，溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理；在化學(xué)工業(yè)中作中間體，用來生產(chǎn)殺蟲劑、潤濕劑、發(fā)泡劑、合成樹脂等表面活性劑。

108、丙烯-C3H8，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；在化學(xué)工業(yè)上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。

109、丙二烯-C3H4，99%，在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于有機(jī)合成中間體。

110、氧化丙烯-C3H6O，>99.9%，(又稱1，2-環(huán)氧丙烷)，用于制備丙二醇和泡沫塑料；也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。

111、甲基乙烯醚-CH3COCH3，>99.5%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于有機(jī)合成中間體；塑料和合成樹脂制備時(shí)的原料及共聚物的生產(chǎn)。

112、六氟丙烯-C3F6，>99.9%，用于有機(jī)合成中間體。

113、丙酰氯-CH3CH2COCl，＞99.9%，用于制備鹽酸、丙酸；用作氧化劑。

114、正丁烷-C4H10，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用作燃料，商業(yè)上主要和異丁烷混合用；化學(xué)工業(yè)中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等；作煙霧噴射劑；充入溫度計(jì)球作標(biāo)準(zhǔn)蒸汽壓型的壓力表；與氦混合用作電離粒子計(jì)算器。

115、異丁烷-iC4H10，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用途同(114)。

116、乙基乙炔C4H5，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；化學(xué)工業(yè)中作為合成中間體。

117、環(huán)丁烷-(CH2)4，>99%，作為液體溶劑，或與其它溶劑混合使用；也可作為合成中間體。

118、丁烯-1-C4H8，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于有機(jī)化合物的制備中間體；催化脫氫生成丁二烯。

119、順丁烯-2C4H8，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于有機(jī)化合物的制備中間體；催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽，加水生成丁醇-2等；也可用作溶劑。

120、反丁烯-2-C4H8，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用途同(119)。

121、順與反丁烯-2-C4H8，>99%，用作校正氣；用途同(119)。塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-6；也是火箭燃料組成部分。

122、1，3丁二烯-C4H6，>99%，用作校正氣；用聚合法和共聚法來生產(chǎn)合成橡膠、塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-66；也是火箭燃料組成部分。

123、異丁烯-iC4H8，>99.9%，用作校正氣，用于有機(jī)中間體，使氧化產(chǎn)生丙酮和甲酸，在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等；也可用來制備合成橡膠，有很高的耐酸堿度；是良好的絕緣體。

124、八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯)，>99.5%，用于有機(jī)合成中間體。

125、二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5，99.99%，一接觸到氧化劑，反應(yīng)劇烈；與二氧化碳混合，遇到汞會產(chǎn)生爆炸反應(yīng)。

126、正戊烷-C5H12，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；作溶劑及合成中間體。

127、異戊烷-iC5H12，>99%，用作校正氣；用途同(126)。

128、2，2二甲基丙烷-C5H12，(又叫新戊烷)，>99.9%，是生產(chǎn)異丁烯的原料，用于生產(chǎn)合成丁烯橡膠。

129、3-甲基-1-丁烯-C5H10，(甲基丁烯)，>99.95%，用于有機(jī)合成中間體；也用于增加燃料的辛烷值；用于塑料的聚合。

130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl，>99.99%，可制備氯化氫與特戊酸；可與強(qiáng)氧化劑反應(yīng)。

131、苯-C5H6，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點(diǎn)氣；是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農(nóng)藥的原料。

132、己烷-C6H14，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；作溶劑。

133、三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3，>99.99%，用于合成中間體；烯類聚合催化劑，芳烴衍生物聚合的催化劑。

134、環(huán)己烷-C6H12，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于制備環(huán)己醇和環(huán)己酮；用于合成耐6；在涂料工業(yè)中廣泛用作溶劑，也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。

135、己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl，>99.99%，用于制備氯化氫與肥酸。

136、甲苯-C7H8，，>99.99%，用作零點(diǎn)氣、校正氣；用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等；也用作溶劑。

137、苯乙烯-C8H8，，>99.9%，用作校正氣；用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。

138、2-乙基己酰氯-C5H10，C2H5，COCl，>99.9%，可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

139、辛酰氯-CH3，(CH2，)6COCl，>99.9%，是氧化劑；可用于制備鹽酸與辛酸。

140、氨基咪哇酮-C9H15，N3O3，>99.9%，用作還原劑。

141、壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl，>99.9%，用于制備鹽酸與壬酸。

142、新癸酰氯-C10H19OCl，>99.9%，用于制備鹽酸與新癸酸。

143、三異丁基鋁-C12H27，Al，(簡稱TIBA)，>99.99%，用于合成中間體，是聚合烯類和二烯類的催化劑。

144、十二酰氯-CH3(CH2)10COCl，>99.9%，用于制備鹽酸與月桂酸。

145、十八酰氯-CH3(CH2)18COCl，＞99.9%，用于制備鹽酸與硬醋酸。

146、酚酞黃-C20H14O4，>99.9%，醫(yī)療用作瀉藥。

147、空氣(或合成空氣)-21%O2，79%N2，用作零點(diǎn)氣，超零點(diǎn)級空氣中含CnHm<0.lppm，零點(diǎn)級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點(diǎn)級空氣經(jīng)常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。

148、仲氫-H2，>99.99%，用作火箭推進(jìn)劑；核工業(yè)中用于氣泡室；冷電子工程低溫液態(tài)供固體電路研究用。

149、純水-H2O，>99.9999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣。

150、氖-Ne，>99.999%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣；用于充發(fā)光燈泡、電子管、訊號燈、等離子體研究、熒光燈中啟動器、火花室、蓋革一彌勒管、激光器；用作低溫冷卻劑。

151、氪氣-Kr，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣、燈泡與電子工業(yè)用氣。

152、氙氣-Xe，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、特種混合氣，用于電光源、電子工業(yè)、充填閘流管和半波整流管。

153、溴氣-Br2，>99.99%，用于化學(xué)工業(yè)中制備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實(shí)驗(yàn)試劑；也用于染料和攝影工業(yè)。

154、臭氧-O3，>99.99%，用作醫(yī)療氣，用于外科設(shè)備的消毒，人類用水和游泳池的凈化，工業(yè)廢品的處理，污物消毒；紡織纖維、紙漿和糖類的漂白，樟腦的制備，礦物油及其衍生物的凈化。

155、氰氣-C2N2，>99%，用作焊接與切割耐熱金屬，與氧化劑、臭氧和氟氣混合后作火箭與導(dǎo)彈推進(jìn)劑；醫(yī)學(xué)上作薰蒸劑；用于許多有機(jī)合成中的媒介物。

156、氯化氰-ClCN，>99%，用于有機(jī)合成；與薰蒸氣體相混合可作熱源。

157、氟化氫-HF，>99.9%，用于制備氟化物、氟氣；在異構(gòu)化、冷凝過程、聚合、干燥、水解反應(yīng)等作為催化劑；在有些有機(jī)或無機(jī)反應(yīng)中作為氟化劑。

158、亞硝酰氯-NOCl，>99%，用于有機(jī)化合物的重氮化、硝化、氯化作用；也用于石油熟化劑。

159、過氟二氯氧ClO3F，>99%，用于與氟鹵素類相混合，成為火箭發(fā)動機(jī)的液態(tài)氧化劑；也可供街族化合物作選擇性的氟化劑。

160、碳酰氯-COCl2，(光氣)，>99.9%，用于染料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機(jī)合成；還用作氯化劑。

161、硫酰氟-SOF2，>99.5%，用于制備氟碳化合物；是優(yōu)良的殺蟲薰蒸劑，用于集裝箱、農(nóng)作物種子、林木種子的薰蒸，倉庫、古建筑、園林果木蛀干性害蟲及白蟻的防治，以及文物檔案的保護(hù)；也用作催化劑。

162、羰基鎳-Ni(CO)4，>99.95%，用于制備高純鎳；制成金屬鏡及很薄的鎳箔；是碳化反應(yīng)中有效的催化劑。

163、羰基鐵-Fe(CO)5在有的文獻(xiàn)中寫成Fe(CO)4〕，>99.95%，主要作鐵的載體，在汽油中作抗爆劑。

164、磷酸-H3PO4，>99.99%，用作校正氣；用于制磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸按肥料；還作化學(xué)試劑。

165、過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O，>99.99%，強(qiáng)氧化劑，可測定水中汞含量。

166、一氧化碳-CO，>99.995%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；與氫和其它氣體混合作燃料氣；用于從含有鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳；也可用于制備酸類、醚類和醇類化學(xué)品。

167、二氧化硫-SO2，>99.99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于啤酒、葡萄酒、肉類的防腐；硫化物和氧硫化物的制備；油類和食品的漂白劑；硫化紙漿的制備；制冰工業(yè)的冷卻劑。

168、二氧化氮-NO2(N2O4)，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于一些氧化反應(yīng)的催化劑；在丙烯酸鹽類精餾時(shí)用于防止聚合，用作有機(jī)物的硝化劑、氧化劑、火箭燃料、面粉漂白劑。

169、二氟化氧-OF2，>99.5%，用作氧化劑，是高能火箭推進(jìn)劑系統(tǒng)中的組成部分。

170、三氧化二氮-N2O3，>99.5%，與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類；在特殊燃料系統(tǒng)中作氧化劑，也用于萜烯類的鑒定。

171、三氧化氙-XeO3，>99.99%，用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。

172、三氧化硫-SO3，>99.99%，用于化學(xué)工業(yè)中制備硫酸與發(fā)煙硫酸；是硫化劑；也用于染料工業(yè)。

173、三氟化氯-ClF3，>99.5%，用作火箭導(dǎo)彈推進(jìn)劑，當(dāng)接觸到燃料時(shí)(自發(fā)能力)能使其立刻開始反應(yīng)；也用作油井管道切割劑，管道深達(dá)2公里也可用它來切斷管子。

174、三氟化溴-BrF5，>99.5%，用作氟化劑和電解溶劑；也用于火箭導(dǎo)彈的推進(jìn)劑。

175、四氟化氮-N2F4，>99.9%，強(qiáng)氧化劑，可制備三氟化氮。

176、四氟化氙-XeF4，>99.9%，可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液。

177、五氟化溴-BrF5，>99%，用作氟化劑；也用于火箭導(dǎo)彈的推進(jìn)劑。

178、五氟化氯-ClF5，>99%，強(qiáng)烈的氧化劑，腐蝕性比三氟化氯小，可制備有機(jī)及無機(jī)氟化物；可作空間推進(jìn)器的助燃劑。

179、五氟化碘-IF5，>99%，用作氟化劑和燃燒劑。

180、六氟化鉬-MoF5>99.9%，強(qiáng)烈的氟化劑，也用于鑰的載體。

181、六氟化碲-TeF5，>99.9%，用作氟化劑和啼的載體。

182、氟三氯甲烷(R11)-CCl3F，>99.95%，用于冷凍工業(yè)、空調(diào)、溶劑、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發(fā)泡劑、檢漏、紡織品的干洗。

183、二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于低溫空調(diào)、食品貯藏、冷凍工業(yè)、煙霧噴射劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。

184、二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2，>99.9%，用于石油、丙酮、二硫化碳生產(chǎn)中及電器著火時(shí)的滅火劑。

185、二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2，>99.9%，用于快速聚合；用作滅火劑。

186、二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F，>99.9%，用于氣候很熱時(shí)的空調(diào)、冷凍劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學(xué)媒介物。

187、二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2，>99.9%，用于冷卻和空調(diào)；在低溫噴霧特殊情況下作煙霧噴射劑；氟化聚合物的生產(chǎn)和檢漏。

188、二氟甲烷(R32)-CH2F2，>99%，用作冷凍劑，與五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷凍劑。

189、氯甲烷(R40)–CH3Cl，>99.5%，用作冷凍劑，局部麻醉處理；氣溶膠工業(yè)中當(dāng)作噴射氣體；有機(jī)合成中用作甲基劑；作溶劑或萃取劑。

190、溴甲烷(R40B1)-CH3Br，>99.9%，用于有機(jī)合成(著色劑)中甲基劑；低溫溶劑、冷凍劑；土壤與種子的薰蒸劑。

191、氟甲烷(R41)-CH3F，>99.9%，以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。

192、1，1，2，-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3，(俗稱TTE)，>99.9%，用作冷凍劑、傳熱介質(zhì)；制備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒介物。

193、1，2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4，>99%，用作冷凍、冷卻、空調(diào)，單獨(dú)與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。

194、1，2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4，>99.5%，用作溶劑、滅火劑，與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。

195、五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5，>99.9%，用作冷凍劑、煙霧噴射劑。

196、二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2，>99%，用作冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。

197、三氟乙烷(R143)-C2H3F3，>99.9%，用作冷凍劑。

198、1，1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2，>99%，用作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機(jī)合成中間媒介物。

199、氯乙烷(R160)-C2H3Cl，>99.9%，用于局部麻醉的醫(yī)療處理，外科和皮膚科的噴霧醫(yī)療；在染料工業(yè)中當(dāng)作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生產(chǎn)。

200、氟乙烷(R161)-C2H5F，>99.9%，用于合成中間媒介物。

201、R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5，>99.9%，用作冷凍劑、空調(diào)。

202、R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2，>99.9%，用作冷凍劑、空調(diào)、噴霧。

203、R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3，>99.9%，用作冷凍劑、空調(diào)。

204、全氟丁烷(R601)-C4F10，>99%，用作絕緣氣體。

205、三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3，>99%，用于制備潤滑脂、油類、

蠟類、塑料的聚合劑，聚三氟氯乙烯的單體。

206、三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3，>99%，用于聚合反應(yīng)和化學(xué)中間體。

207、二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2，＞99.9%，用于化學(xué)合成中間體。

208、1，1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2，>99%，是一個(gè)很重要的單體，用于生產(chǎn)塑料及彈性體。

209、氯乙烯(R1140)-C2H3Cl，>99.9%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用作聚合劑、有機(jī)合成的中間體。

210、氟乙烯(R1140)-C2H3F，>99.9%，用作聚合劑、有機(jī)合成的中間體。

211、氦-3–He3，>99.99%，充計(jì)數(shù)管；作稀釋制冷機(jī)超低溫冷源，可達(dá)4.5×10-3K。

212、氦-4-He4，>99.99%，在空間應(yīng)用的低溫火箭燃料、核反應(yīng)堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣。

213、氘-D2，>99.95%，在核工業(yè)研究中應(yīng)用在氖核加速器中作為拋射體；當(dāng)放射丫能射線時(shí)作為中子源；在研究化學(xué)反應(yīng)時(shí)，包括氫化合物，可作為軌跡用；用于生產(chǎn)重水(D2O)。

214、氚-T2，>99.95%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣，控制每升為1000微居里，有很廣泛的活潑性，與氖氬混合作為載氣，可用于檢測微量氮?dú)饧捌渌∮袣怏w。

215、氧-18-O218，>99%，可制備H218O、D218O、S18O2。

216、氮-15-N215，>99%，可制備15NH3、16NO、15NO等。

217、氬-36–Ar36，>99.99%，計(jì)量值用。

218、氬-40-Ar40，>99.99%，計(jì)量值用。

219、氖-20Ne20，>99.99%，計(jì)量值用。

220、氖-22Ne22，>99.99%，計(jì)量值用。

221、氪-85-Kr85，>99.99%，標(biāo)準(zhǔn)氣，控制每升為10微居里，充燈泡用。

222、氪-86-Kr86，>99.9%用作標(biāo)準(zhǔn)氣。

223、氙-133-Xe133，>99.9%，充燈泡用。

224、碳-13-C13，>99%，可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。

225、碳-14-C14，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣，控制每升為100微居里。

226、碳-18-C18，>99%>99%，可制備C18O2、C18O。

227、硫-35-S35，>99%，用作標(biāo)準(zhǔn)氣，控制每升為100微居里。

228、三氯甲烷-CHCl3，>99.9%，用于等離子干刻。

229、三氯乙烷-C2HCl3，>99.9%，用于熱氧化。

230、二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2，>96%，用于外延、化學(xué)氣相淀積。

231、二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl，>96%，用于外延、化學(xué)氣相淀積。

232、三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl，>95%，用于外延、化學(xué)氣相淀積。

233、二氟四氯乙烷-C2Cl4F2，>99.9%，用于等離子干刻。

234、六氟化硅-SiF2，>99.9%，用于等離子干刻。

235、八氟甲烷-CF8，>99.9%，用于等離子干刻。

236、異十氟丁烷-i-C4F10，>99.9%，用于等離子干刻。

237、十二氟乙烷-C2F12，>99.9%，用于等離子干刻。

238、乙烯基甲基醚-C3H3O，>99.5%。

239、乙烯基乙炔-CH2CHC2H，>50%。

240、二甲基鎘-(CH3)2Cd，純度＞99.999%，電子氣，用于MOCVD。

241、二乙基鎘-(C2H5)2Cd，>99.999%，電子氣，用于MOCVDo

242、四甲基錫-(CH3)4Sn，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

243、四乙基錫-(C2H5)Sn，>99.999%，電子氣，_用于MOCVD。

244、三甲基砷-(CH3)3As，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

245、三乙基砷-(C2H5)3As，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

246、三乙基銻-(C2H5)3Sb，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

247、二乙基銦-(C2H5)2ln，>99.9999%，電子氣，用于MOCVD。

248、二甲基銦-(CH3)2In，)99.9999%，電子氣，用于MOCVD。

249、二乙基鎂-(C2H5)2Mg，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

250、二甲基汞-(CH3)2Hg，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

251、二乙基汞-(C2H5)2Hg，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

252、三甲基磷-(CH3)3P，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

253、三乙基磷-(C2H5)3P，>99.999%，電子氣，用于MOCVD。

254、三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI，＞99.9999%，電子氣，用于MOCVD。

255、丙硅烷-Si3H8，>99%，電子氣，用于CVD。

256、三氯化鋁-AlCl3，>99.999%，電子氣，用于外延。

257、五氟化鉭-TaF5，>99.9%，電子氣，用于離子注入。

258、五氟化鉈-TlF5，>99.9%，電子氣，用于離子注入。

259、氯乙烯-C2H3Cl，99.9%，校正氣，用作冷凍劑。

260、氟乙烯-C2H3F，>99.9%，校正氣，用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。