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硅片清洗工藝步驟有哪些 硅片清洗后有水印怎么辦

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摘要:在硅晶體管和集成電路生產(chǎn)中,幾乎每道工序都有硅片清洗的問題,硅片清洗的好壞對器件性能有嚴(yán)重的影響,處理不當(dāng),可能使全部硅片報廢,做不出管子來,或者制造出來的器件性能低劣,穩(wěn)定性和可靠性很差。硅片清洗法不管是對于從硅片加工的人還是對于從事半導(dǎo)體器件生產(chǎn)的人來說都有著重要的意義。那么硅片清洗工藝步驟有哪些以及硅片清洗后有水印怎么辦呢?一起到文中尋找答案吧!

一、硅片清洗工藝步驟有哪些

吸附在硅片表面上的雜質(zhì)可分為分子型、離子型和原子型三種情況。其中分子型雜質(zhì)與硅片表面之間的吸附力較弱,清除這類雜質(zhì)粒子比較容易。它們多屬油脂類雜質(zhì),具有疏水性的特點,對于清除離子型和原子型雜質(zhì)具有掩蔽作用。

因此在對硅片進(jìn)行化學(xué)清洗時,首先應(yīng)該把它們清除干凈。離子型和原子型吸附的雜質(zhì)屬于化學(xué)吸附雜質(zhì),其吸附力都較強。

在一般情況下,原子型吸附雜質(zhì)的量較小,因此在化學(xué)清洗時,先清除掉離子型吸附雜質(zhì),然后再清除殘存的離子型雜質(zhì)及原子型雜質(zhì)。

最后用高純?nèi)ルx子水將硅片沖冼干凈,再加溫烘干或甩干就可得到潔凈表面的硅片。

綜上所述,清洗硅片的一般工藝程序為:去分子→去離子→去原子→去離子水沖洗。另外,為去除硅片表面的氧化層,常要增加一個稀氫氟酸浸泡步驟。


二、硅片清洗后有水印怎么辦

1、沖洗不干凈,可以拿一些干凈的硅片再重新清洗一次,不要過清洗劑槽,看是否有水印出現(xiàn),若無,則是清洗劑的問題,調(diào)整即可。

2、烘干不夠,將硅片在進(jìn)入烘干通道前取出甩干或吹干,看是否有水印,如無,則是加大烘干通道的力度。

3、水中雜質(zhì)含量過高,造成不易清洗,清除水中的雜質(zhì)即可。

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