一、mos管的vgs電壓是什么意思
Vgs是柵極相對于源極的電壓。
與NMOS一樣,導(dǎo)通的PMOS的工作區(qū)域也分為非飽和區(qū),臨界飽和點和飽和區(qū)。當(dāng)然,不論NMOS還是PMOS,當(dāng)未形成反型溝道時,都處于截止區(qū),其電壓條件是:|VGS|>|VTP(PMOS)|,值得注意的是,PMOS的VGS和VTP都是負(fù)值。
PMOS集成電路是一種適合在低速、低頻領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用的器件。PMOS集成電路采用-24V電壓供電。MOS場效應(yīng)晶體管具有很高的輸入阻抗,在電路中便于直接耦合,容易制成規(guī)模大的集成電路。
二、MOS管各項參數(shù)分別是什么含義
1、開啟電壓VT
開啟電壓(又稱閾值電壓):使得源極S和漏極D之間開始形成導(dǎo)電溝道所需的柵極電壓,標(biāo)準(zhǔn)的N溝道MOS管,VT約為3~6V,通過工藝上的改進,可以使MOS管的VT值降到2~3V。
2、直流輸入電阻RGS
即在柵源極之間加的電壓與柵極電流之比,這一特性有時以流過柵極的柵流表示,MOS管的RGS可以很容易地超過1010Ω。
3、漏源擊穿電壓BVDS
在VGS=0(增強型)的條件下,在增加漏源電壓過程中使ID開始劇增時的VDS稱為漏源擊穿電壓BVDS,ID劇增的原因有下列兩個方面:(1)漏極附近耗盡層的雪崩擊穿,(2)漏源極間的穿通擊穿,有些MOS管中,其溝道長度較短,不斷增加VDS會使漏區(qū)的耗盡層一直擴展到源區(qū),使溝道長度為零,即產(chǎn)生漏源間的穿通,穿通后,源區(qū)中的多數(shù)載流子,將直接受耗盡層電場的吸引,到達(dá)漏區(qū),產(chǎn)生大的ID。
4、柵源擊穿電壓BVGS
在增加?xùn)旁措妷哼^程中,使柵極電流IG由零開始劇增時的VGS,稱為柵源擊穿電壓BVGS。
5、低頻跨導(dǎo)gm
在VDS為某一固定數(shù)值的條件下,漏極電流的微變量和引起這個變化的柵源電壓微變量之比稱為跨導(dǎo),gm反映了柵源電壓對漏極電流的控制能力,是表征MOS管放大能力的一個重要參數(shù),一般在十分之幾至幾mA/V的范圍內(nèi)。
6、導(dǎo)通電阻RON
導(dǎo)通電阻RON說明了VDS對ID的影響,是漏極特性某一點切線的斜率的倒數(shù),在飽和區(qū),ID幾乎不隨VDS改變,RON的數(shù)值很大,一般在幾十千歐到幾百千歐之間,由于在數(shù)字電路中,MOS管導(dǎo)通時經(jīng)常工作在VDS=0的狀態(tài)下,所以這時的導(dǎo)通電阻RON可用原點的RON來近似,對一般的MOS管而言,RON的數(shù)值在幾百歐以內(nèi)。
7、極間電容
三個電極之間都存在著極間電容:柵源電容CGS、柵漏電容CGD和漏源電容CDS,CGS和CGD約為1~3pF,CDS約在0.1~1pF之間。
8、低頻噪聲系數(shù)NF
噪聲是由管子內(nèi)部載流子運動的不規(guī)則性所引起的,由于它的存在,就使一個放大器即便在沒有信號輸人時,在輸出端也出現(xiàn)不規(guī)則的電壓或電流變化,噪聲性能的大小通常用噪聲系數(shù)NF來表示,它的單位為分貝(dB),這個數(shù)值越小,代表管子所產(chǎn)生的噪聲越小,低頻噪聲系數(shù)是在低頻范圍內(nèi)測出的噪聲系數(shù),場效應(yīng)管的噪聲系數(shù)約為幾個分貝,它比雙極性三極管的要小。