一、光刻膠和光刻機有什么區(qū)別

光刻膠和光刻機的區(qū)別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。而光刻機是制造芯片的核心裝備，采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

二、光刻膠和光刻機的關(guān)系

光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料，光刻機利用特殊光線將集成電路映射到硅片表面，并要避免在硅片表面留下痕跡，需要在硅片表面涂上一層特殊的物質(zhì)：光刻膠。

光刻機和光刻膠的關(guān)系就是：光刻機在晶圓上用光源畫電路圖的時候，不直接畫圖，需要在晶圓上涂抹一層液態(tài)的光刻膠，光刻膠干燥后形成膠膜，光刻機才開始畫圖作業(yè)。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前 光刻膠在芯片、面板、模擬半導(dǎo)體、發(fā)光二極管及光子器件上都得到了廣泛應(yīng)用。