欧美日本免费一区二区三区,中文字幕丰满乱孑伦无码专区,免费a级毛片无码鲁大师,亚洲久悠悠色悠在线播放

光刻膠怎么保存 光刻膠使用和儲(chǔ)存注意事項(xiàng)

本文章由注冊(cè)用戶 知識(shí)雜談 上傳提供 2023-04-18 評(píng)論 發(fā)布 糾錯(cuò)/刪除 版權(quán)聲明 0
摘要:光刻膠在半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)最關(guān)鍵的材料之一。光刻膠是光刻過(guò)程最重要的耗材,光刻膠的質(zhì)量對(duì)光刻工藝有著重要影響,所以在保存光刻膠時(shí)要特別注意避光、防潮、低溫。下面來(lái)了解下光刻膠使用和儲(chǔ)存注意事項(xiàng)。

一、光刻膠怎么保存

1、溫度:光刻膠應(yīng)存放在低溫環(huán)境下,一般建議存放在-20℃以下的冰箱中,避免光刻膠受熱變質(zhì)。同時(shí),光刻膠在存放和使用過(guò)程中應(yīng)避免受到溫度變化的影響,以免影響其性能和質(zhì)量。

2、光照:光刻膠應(yīng)避免直接暴露在強(qiáng)光下,以免光刻膠受到光照而失去靈敏度。因此,在存放和使用光刻膠時(shí),應(yīng)盡量避免光照,可以使用黑色遮光袋或黑色遮光箱進(jìn)行保護(hù)。

3、濕度:光刻膠應(yīng)存放在干燥的環(huán)境中,避免受潮。因?yàn)槌睗竦沫h(huán)境會(huì)影響光刻膠的性能和質(zhì)量,甚至?xí)?dǎo)致光刻膠失效。因此,在存放和使用光刻膠時(shí),應(yīng)盡量避免受潮,可以使用密封袋或密封容器進(jìn)行保護(hù)。

4、震動(dòng):光刻膠應(yīng)避免受到劇烈的震動(dòng)和振動(dòng),以免影響其性能和質(zhì)量。因此,在存放和使用光刻膠時(shí),應(yīng)盡量避免受到震動(dòng)和振動(dòng),可以使用泡沫箱或其他緩沖材料進(jìn)行保護(hù)。

二、光刻膠使用和儲(chǔ)存注意事項(xiàng)

1、保存

光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的,除了有溫度的要求外,對(duì)于儲(chǔ)存時(shí)間和外包裝材料有很嚴(yán)格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝,再套上黑色塑料袋。

光刻膠的保存期限一般為6個(gè)月至1年左右,具體時(shí)間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,在存放和使用光刻膠時(shí),應(yīng)注意光刻膠的保存期限,避免使用過(guò)期光刻膠。

2、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同,原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動(dòng),從而減少工藝波動(dòng)。而凈化間室溫一般是23度,所以光刻膠涂布溫度一般為23度。一般在旋涂的情況下,高于會(huì)中間厚,低于會(huì)中間薄。同時(shí)涂布前,wafer也需要冷板,保證每次涂布wafer的溫度一致。

3、涂布時(shí)濕度的控制

現(xiàn)在光刻膠涂覆工段一般都與自動(dòng)純水清洗線連在一起,很多時(shí)候都只考慮此段的潔凈度,而疏忽了該段的濕度控制,使得光刻膠涂覆的良品率比較低,在顯影時(shí)光刻膠脫落嚴(yán)重,起不到保護(hù)阻蝕的效果。

4、涂膠后產(chǎn)品的放置時(shí)間的控制

在生產(chǎn)設(shè)備出現(xiàn)故障等特殊情況下,涂完光刻膠的產(chǎn)品需要保留,保留的時(shí)間一般不超過(guò)8小時(shí),曝光前如已被感(即膠膜已失效),不能作為正品,需返工處理。

5、前烘溫度和時(shí)間的控制

前烘的目的是促使膠膜內(nèi)溶劑充分揮發(fā),使膠膜干燥以增強(qiáng)膠膜與基板表面的粘附性和膠膜的耐磨性。曝光時(shí),掩模版與光刻膠即使接觸也不會(huì)損傷光刻膠膜和沾污掩模膜,同時(shí)只有光刻膠干凈、在曝光時(shí),光刻膠才能充分地和光發(fā)生反應(yīng)。同時(shí)注意前烘的溫度不能過(guò)高,過(guò)高會(huì)造成光刻膠膜的碳化,從而影響光刻效果。一般情況下,前烘的溫度取值比后烘堅(jiān)膜溫度稍低一些,時(shí)間稍短一些。

6、顯影條件的控制

顯影時(shí)必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時(shí)間。在一定濃度下的顯影液中,溫度和時(shí)間直接影響的速度,若顯影時(shí)間不足或溫度低,則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解,留有一層光刻膠,在刻蝕時(shí),這層膠會(huì)對(duì)膜面進(jìn)行保護(hù)作用,使應(yīng)該刻蝕的膜留下來(lái)。若顯影時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或溫度過(guò)高,顯影時(shí)未被曝光部位的光刻膠也會(huì)被從邊緣里鉆溶。使圖案的邊緣變差,再嚴(yán)重會(huì)使光刻膠大量脫落,形成脫膠。

網(wǎng)站提醒和聲明
本站為注冊(cè)用戶提供信息存儲(chǔ)空間服務(wù),非“MAIGOO編輯”、“MAIGOO榜單研究員”、“MAIGOO文章編輯員”上傳提供的文章/文字均是注冊(cè)用戶自主發(fā)布上傳,不代表本站觀點(diǎn),版權(quán)歸原作者所有,如有侵權(quán)、虛假信息、錯(cuò)誤信息或任何問(wèn)題,請(qǐng)及時(shí)聯(lián)系我們,我們將在第一時(shí)間刪除或更正。 申請(qǐng)刪除>> 糾錯(cuò)>> 投訴侵權(quán)>> 網(wǎng)頁(yè)上相關(guān)信息的知識(shí)產(chǎn)權(quán)歸網(wǎng)站方所有(包括但不限于文字、圖片、圖表、著作權(quán)、商標(biāo)權(quán)、為用戶提供的商業(yè)信息等),非經(jīng)許可不得抄襲或使用。
提交說(shuō)明: 快速提交發(fā)布>> 查看提交幫助>> 注冊(cè)登錄>>
相關(guān)推薦
光刻膠的制造流程 光刻膠制備方法
光刻膠和半導(dǎo)體、芯片之間有密切的關(guān)聯(lián),在半導(dǎo)體制造中,光刻膠被用于制作芯片的圖形化圖案。光刻膠的主要成分是光敏劑和聚合物基質(zhì)。光刻膠的制作過(guò)程包括混合、涂布、預(yù)烘、曝光、顯影、后烘等步驟。下面來(lái)詳細(xì)介紹下光刻膠的制造流程,光刻膠制備方法。
光刻膠 芯片
1266 3
光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理
光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路加工制作,是電子制造領(lǐng)域關(guān)鍵材料。光刻膠由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學(xué)成像原理。
光刻膠 芯片
2462 4
光刻膠是什么東西 光刻膠的作用
光刻膠是什么東西?光刻膠是一種對(duì)光敏感的混合液體,屬于半導(dǎo)體八大核心材料之一,具有光化學(xué)敏感性,在光線照射下會(huì)發(fā)生變化,是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,主要應(yīng)用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領(lǐng)域。光刻膠的作用是什么?下面來(lái)了解下。
光刻膠和光刻機(jī)有什么區(qū)別 光刻膠和光刻機(jī)的關(guān)系
光刻膠和光刻機(jī)僅一字之差,它們之間有什么區(qū)別呢?簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),光刻膠是一種材料,光刻機(jī)是一種機(jī)器。在光刻工藝中,需要通過(guò)光刻膠把電路印制在基板上,然后在光刻機(jī)上進(jìn)行下一步。光刻膠和光刻機(jī)有什么關(guān)系?光刻機(jī)需要在光刻膠的基礎(chǔ)上才開(kāi)始畫(huà)圖作業(yè)。
光刻膠的種類有哪些 光刻膠應(yīng)用于哪些領(lǐng)域
光刻膠是半導(dǎo)體核心材料,是集成電路制造的重要材料。光刻膠經(jīng)過(guò)幾十年不斷的發(fā)展和進(jìn)步,應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大,衍生出非常多的種類。按照顯影效果不同,光刻膠分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。按照下游應(yīng)用領(lǐng)域不同,光刻膠可分為PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠。下面來(lái)了解下光刻膠種類和應(yīng)用領(lǐng)域。
光刻膠 芯片
1143 4