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2024年光刻機(jī)品牌

光刻機(jī)品牌排行榜,半導(dǎo)體光刻機(jī)企業(yè)排行,光刻機(jī)有哪些品牌
光刻機(jī)哪個(gè)好?經(jīng)專業(yè)評測的2024年光刻機(jī)名單發(fā)布啦!居前四的有:ASML阿斯麥、Nikon、Canon、上海微電子Smee等,上榜光刻機(jī)四大榜單和著名光刻機(jī)名單的是口碑好或知名度高、有實(shí)力的,排名不分先后,僅供借鑒參考,想知道哪個(gè)光刻機(jī)好?您可以多比較,選擇自己滿意的!光刻機(jī)品牌主要屬于商標(biāo)分類的第7類。榜單更新時(shí)間:2024年09月18日(每月更新)
十大品牌榜
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  • NO.1
    ASML阿斯麥
    阿斯麥(上海)光刻設(shè)備科技有限公司
    品牌指數(shù): 88.6
    3個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    專業(yè)測評A+
    成立時(shí)間1984年
    老牌品牌
    注冊資本2顆星
    品牌點(diǎn)贊1363+
    關(guān)注度1萬+
    品牌得票31萬+
    荷蘭
    ASML創(chuàng)立于1984年,全球芯片光刻設(shè)備市場領(lǐng)導(dǎo)者,是全球最大的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻機(jī),2010年成功研發(fā)首臺EUV光刻機(jī),是當(dāng)前唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司。ASML在全球10余個(gè)國家設(shè)有60余個(gè)辦公...查看更多>>
  • NO.2
    Nikon
    尼康精機(jī)(上海)有限公司
    品牌指數(shù): 87.4
    2個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    專業(yè)測評A+
    注冊資本3顆星
    品牌點(diǎn)贊502+
    關(guān)注度2586+
    品牌得票26萬+
    日本
    Nikon光刻機(jī)隸屬尼康精機(jī)事業(yè)部,研制用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的半導(dǎo)體光刻設(shè)備的開發(fā)與研究,Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)涵蓋ArFi光刻機(jī)、ArF光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)、i-line光刻機(jī)系列集成電路用光刻機(jī)及面板用光刻機(jī),是全球范圍內(nèi)較大的光刻機(jī)制造商。查看更多>>
  • NO.3
    Canon
    佳能光學(xué)設(shè)備(上海)有限公司
    品牌指數(shù): 86.2
    1個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    專業(yè)測評A+
    注冊資本3顆星
    品牌點(diǎn)贊303+
    關(guān)注度1672+
    品牌得票13萬+
    日本
    佳能光刻機(jī)歷史源于Canon對相機(jī)鏡頭技術(shù)的應(yīng)用,Canon于1970年成功發(fā)售日本首臺半導(dǎo)體光刻機(jī)PPC-1,目前佳能的光刻機(jī)產(chǎn)品包括i線光刻機(jī)和KrF光刻機(jī)產(chǎn)品線,佳能光學(xué)設(shè)備是佳能公司在中國大陸地區(qū)成立的提供半導(dǎo)體及液晶面板生產(chǎn)設(shè)備營業(yè)輔助業(yè)務(wù)和技術(shù)...查看更多>>
  • NO.4
    上海微電子Smee
    上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
    品牌指數(shù): 85
    國家企業(yè)技術(shù)中心
    2個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    專業(yè)測評A+
    成立時(shí)間2002年
    資深品牌
    注冊資本4顆星
    品牌點(diǎn)贊1207+
    關(guān)注度3萬+
    品牌得票20萬+
    上海市
    SMEE成立于2002年,是國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域佼佼者,主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù),廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。查看更多>>
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中國光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米 中國高端光刻機(jī)什么時(shí)候能研制出來
光刻機(jī)是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備,是世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,也是工時(shí)和成本占比最高的設(shè)備,更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶,目前世界上只有3個(gè)國家有能力制造出光刻機(jī),我國就是其中一個(gè)。那么,中國光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米?中國高端光刻機(jī)什么時(shí)候能研制出來?
制造芯片一定要光刻機(jī)嗎 蝕刻機(jī)能代替光刻機(jī)嗎
芯片堪稱工業(yè)的糧食,是科技時(shí)代的重要生產(chǎn)力,手機(jī)、電腦及數(shù)碼產(chǎn)品都離不開芯片的支撐,而制造芯片的重要設(shè)備之一就是光刻機(jī),但是光刻機(jī)很稀缺,全球只有3個(gè)國家能造,那么制造芯片一定要光刻機(jī)嗎?蝕刻機(jī)能代替光刻機(jī)嗎?下面來了解下。
光刻機(jī)哪個(gè)國家的最好 為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機(jī)
光刻機(jī)是一個(gè)非常尖端的工藝技術(shù),目前僅有少數(shù)國家能研制光刻機(jī),那么光刻機(jī)哪個(gè)國家的最好?在高端光刻機(jī)領(lǐng)域,荷蘭是領(lǐng)頭羊,很多發(fā)達(dá)國家都嚴(yán)重依賴荷蘭的光刻機(jī),在光刻機(jī)領(lǐng)域有著絕對的話語權(quán)。為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機(jī)?下面來了解下。
光刻機(jī)中國能造嗎 國產(chǎn)光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距在哪里
光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備,光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平,目前光刻機(jī)做的最好的國家就是荷蘭,我國雖然也有研制光刻機(jī)的能力,但國產(chǎn)光刻機(jī)與國外頂尖光刻機(jī)存在的差距比較明顯。下面來了解下國產(chǎn)光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距。
光刻機(jī)多少錢一臺 一臺光刻機(jī)一天能生產(chǎn)多少芯片
光刻機(jī)是我國現(xiàn)代技術(shù)的一個(gè)短板,在芯片技術(shù)的發(fā)展上,我國也一直受國外的制裁。但是對于現(xiàn)代工業(yè)來說,芯片是核心中的核心,沒有了芯片,很多產(chǎn)品都有可能陷入癱瘓當(dāng)中。那么光刻機(jī)多少錢一臺?一臺光刻機(jī)一天能生產(chǎn)多少芯片?
光刻機(jī)哪個(gè)國家能造 光刻機(jī)的難度在哪里
光刻機(jī)被譽(yù)為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”,號稱比研制原子彈還困難!全球只有3個(gè)國家能造。在全球高端光刻機(jī)市場,荷蘭達(dá)到全球領(lǐng)先水平,除了荷蘭,日本、中國也可以制造光刻機(jī)。但我國一直被西方國家牢牢“卡脖子”,至今都沒能突破尖端技術(shù)。那么,研制光刻機(jī)的難度在哪里?
光刻機(jī)是干什么用的 光刻機(jī)的工作原理
光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一,被譽(yù)為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,無論生產(chǎn)制造什么樣的芯片,都脫離不了光刻機(jī)。光刻機(jī)采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。下面來了解下光刻機(jī)。
光刻機(jī)的種類有哪些 光刻機(jī)怎么制造芯片
光刻機(jī)顧名思義就是“用光來雕刻的機(jī)器”,是芯片產(chǎn)業(yè)中寶貴且技術(shù)難度最大的機(jī)器。光刻機(jī)的種類有哪些?光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,有接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光等光刻機(jī)。光刻機(jī)怎么制造芯片?下面來了解下。
光刻機(jī)是誰發(fā)明的 光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)
光刻機(jī)是一種高精密芯片制造設(shè)備,如果想要自主生產(chǎn)芯片,光刻機(jī)是必要的。那么光刻機(jī)是誰發(fā)明的?光刻機(jī)是法國人Nicephore niepce尼埃普斯發(fā)明的,現(xiàn)已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的主要生產(chǎn)設(shè)備。光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)?下面來了解下。
光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系 光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難
光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系?在芯片制造過程中是離不開光刻機(jī)的,光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,芯片的集成水平取決于光刻機(jī)的精度。光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難?都很難的,不過光刻機(jī)難度最大,目前我國只能自主量產(chǎn)90納米光刻機(jī),與荷蘭的差距還很大。
光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)

一、光刻機(jī)是干什么用的

光刻機(jī)是用來制造芯片的。光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備。

光刻機(jī)決定了芯片的精密尺寸,設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)好芯片線路,再通過光刻機(jī)將線路刻在芯片上,其尺度通常在微米級以上。

光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設(shè)備,因?yàn)槠錄Q定了一塊芯片的整體框架與功能。

其實(shí)生產(chǎn)高精度芯片并不難,只是生產(chǎn)速度太慢,而光刻機(jī)能快速生產(chǎn)高精度的芯片,所以很重要。

二、光刻機(jī)的工作原理

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用,類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是電路圖和其他電子元件。

簡單點(diǎn)來說,光刻機(jī)就是放大的單反,光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計(jì)好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上,形成圖形。

三、光刻機(jī)的性能指標(biāo)

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等。

四、光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)

光刻機(jī)的制造體系非常復(fù)雜,有兩點(diǎn)至關(guān)重要,即精密零部件和組裝技術(shù)。

1、精密零部件

一臺光刻機(jī)的制造需要數(shù)萬個(gè)精密零部件。通常來說,一臺光刻機(jī)的制造需要大約八萬個(gè)精密零件,而目前世界上最為先進(jìn)的極紫外EUV光刻機(jī)所需要的制造零件更是高達(dá)十萬余個(gè)。

一套完整的光刻機(jī)包括多個(gè)組成系統(tǒng),主要包括曝光系統(tǒng)、自動(dòng)對準(zhǔn)系統(tǒng)、整機(jī)軟件系統(tǒng)等。其中,曝光系統(tǒng)更是包含了照明系統(tǒng)和投影物鏡。

在組成光科技的所有核心精密零件中,光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源、雙工作臺又可以說是核心中的核心。

擁有高數(shù)值孔徑的光學(xué)鏡頭是決定光刻機(jī)的分辨率和閾值誤差能力。而分辨率和套值誤差能力對于一臺品牌光刻機(jī)具有至關(guān)重要的重要性。而世界上最為先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產(chǎn)的鏡頭。

光刻機(jī)的光學(xué)光源所包含的光源波長是決定光刻機(jī)工業(yè)能力的重要部分。需要特別注意的是,光刻機(jī)所需要的光源,必須具備體積小、功率高以及穩(wěn)定的幾個(gè)特點(diǎn)。

比如說極紫外EUV光刻機(jī)所使用的光源波長是僅僅只有13.5納米的極紫外光,其所使用的光學(xué)系統(tǒng)極為復(fù)雜。

光刻機(jī)中所需要的工作臺系能夠影響光刻機(jī)運(yùn)行過程中的精度和產(chǎn)效,含有的綜合技術(shù)難度非常高。因?yàn)檫@種工作臺中具有承載硅片來能夠完成光刻機(jī)運(yùn)行過程中的一系列超精密的運(yùn)動(dòng)系統(tǒng),其中包括上下片、對準(zhǔn)、景圓面型測量、曝光等等。

2、組裝技術(shù)

一臺光刻機(jī)不僅需要精密的零件,這些零件的組裝技術(shù)也至關(guān)重要。

當(dāng)所有零件都準(zhǔn)備就緒之后,接下來的組裝過程將直接影響一個(gè)光刻機(jī)的運(yùn)行效能?,F(xiàn)在光刻機(jī)主要生產(chǎn)商荷蘭ASML公司(中文譯名:阿斯麥爾)的生產(chǎn)過程從本質(zhì)上來說更像是一個(gè)零件組裝公司,因?yàn)锳SML公司生產(chǎn)光刻機(jī)所需要的將近90%的部件是從世界各地采購,其在世界上擁有超過五千家供應(yīng)商。

換句話說,ASML公司之所以能夠在光刻機(jī)制造技術(shù)上打敗尼康以及佳能等其他光刻機(jī)生產(chǎn)對手,從而在全球光刻機(jī)制造和銷售市場上占據(jù)領(lǐng)先地位,一個(gè)重要原因就是強(qiáng)大的組裝技術(shù)。

一家強(qiáng)大的光刻機(jī)組裝企業(yè)需要具有各種嫻熟的技術(shù)工人和各種組裝方面的知識產(chǎn)權(quán),從而能夠清楚明白各種精密元件如何組裝,進(jìn)而通過他們嫻熟的操作和系統(tǒng)的知識來快速和精確的制造一臺光刻機(jī)。

我國目前在光刻機(jī)的技術(shù)方面,經(jīng)過近二十年的關(guān)鍵技術(shù)攻克,已經(jīng)取得長足發(fā)展。

從光刻機(jī)雙工作臺來說,中國華卓精科與清華團(tuán)隊(duì)生產(chǎn)聯(lián)合研制的雙工作臺已經(jīng)打破ASML的技術(shù)壟斷,至于光刻機(jī)的同步光源設(shè)備和光學(xué)鏡頭的技術(shù)也在哈工大等全國知名科研機(jī)構(gòu)的潛心研究中獲得了迅猛發(fā)展。

可以說,目前我國人才、資源、資金等各個(gè)方面都已具備,未來我們擁有屬于自己的光刻機(jī)只是時(shí)間問題,未來前景可期!