隨著改革開放的深入,中國在大部分領(lǐng)域都逐漸追上了西方國家的步伐,這值得我們驕傲。然而有一個領(lǐng)域一直是國人的痛點,那就是芯片制造行業(yè),因為種種原因,中國芯片領(lǐng)域的發(fā)展艱難無比,甚至可以說是毫無建樹了。但羅馬不是一天建成的,要解決芯片制造難題,可以先從芯片制造中的重要材料做起。
2021年7月,江蘇南大光電材料股份有限公司在官網(wǎng)發(fā)布最新消息,消息稱其公司旗下生產(chǎn)的ArF光刻膠獲得了國外客戶的一批訂單,能夠在光刻膠領(lǐng)域獲得國外訂單,足以說明其產(chǎn)品已經(jīng)達到國際標準。
首先科普一下光刻膠是什么。光刻膠是指在光刻前涂在硅晶圓上的材料,它是制作芯片過程中的重要材料,按照工藝水平可以分為g線、i線、KrF、ArF、EUV合計5種類型。
而ArF光刻膠一般用于130nm-14nm,最多可以用于7nm DUV工藝。而在ArF光刻膠的市場,國內(nèi)ArF的自給率僅為5%左右,這個領(lǐng)域同樣被日本和美國所壟斷,而此次國內(nèi)ArF光刻膠的突破意味著中國在ArF光刻膠領(lǐng)域正式擺脫了美日的鉗制。
芯片領(lǐng)域我們?nèi)匀宦浜螅珱]有什么是一定的。此次南大光電在光刻膠市場上的突破,可以說是為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅實的基礎(chǔ),就這樣一步步的走下去,中國也必將突破芯片領(lǐng)域的技術(shù)封鎖。
江蘇南大光電材料股份有限公司誕生于國家“863”計劃,創(chuàng)辦于2000年,成長于國家“02-專項”,2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板掛牌上市(股票代碼300346)。多年來,公司一直緊跟國家發(fā)展戰(zhàn)略,圍繞前驅(qū)體材料(包含MO源)、電子特氣和光刻膠三項核心電子材料進行奮斗,并形成三大核心業(yè)務(wù)布局。公司在江蘇蘇州、浙江寧波、安徽全椒、山東淄博、內(nèi)蒙古烏蘭察布設(shè)立研發(fā)生產(chǎn)基地,在北美設(shè)立營銷技術(shù)服務(wù)分公司,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于制備IC、LCD、LED、OLED、功率器件、半導(dǎo)體激光器等領(lǐng)域。
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